אַדוואַנטאַגעס פון סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצן קאַמפּערד מיט קוואַרץ שיפל שטיצן

די הויפּט פאַנגקשאַנז פון סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצן און קוואַרץ שיפל שטיצן זענען די זעלבע. סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצן האט ויסגעצייכנט פאָרשטעלונג אָבער הויך פּרייַז. עס קאַנסטאַטוץ אַן אָלטערנאַטיוו שייכות מיט קוואַרץ שיפל שטיצן אין באַטאַרייע פּראַסעסינג ויסריכט מיט האַרב אַרבעט טנאָים (אַזאַ ווי LPCVD ויסריכט און באָראָן דיפיוזשאַן ויסריכט). אין באַטאַרייע פּראַסעסינג ויסריכט מיט פּראָסט אַרבעט טנאָים, רעכט צו פּרייַז באַציונגען, סיליציום קאַרבידע און קוואַרץ שיפל שטיצן ווערן קאָויגזיסטינג און קאַמפּיטינג קאַטעגאָריעס.

① סאַבסטיטושאַן שייכות אין LPCVD און באָראָן דיפיוזשאַן ויסריכט
LPCVD עקוויפּמענט איז געניצט פֿאַר אַקסאַדיישאַן פון אַקסאַדיישאַן פון די באַטאַרייע צעל טאַנאַלינג און די פּריפּערינג פּראָצעס פון פּאַליסיליקאָן שיכטע. אַרבעט פּרינציפּ:
אונטער נידעריק-דרוק אַטמאָספער, קאַמביינד מיט צונעמען טעמפּעראַטור, כעמישער אָפּרוף און דעפּאַזישאַן פילם פאָרמירונג זענען אַטשיווד צו צוגרייטן הינטער-דין טאַנאַלינג אַקסייד שיכטע און פּאָליסיליקאָן פילם. אין די טאַנאַלינג אַקסאַדיישאַן און דאָפּט פּאָליסיליקאָן שיכטע צוגרייטונג פּראָצעס, די שיפל שטיצן האט אַ הויך ארבעטן טעמפּעראַטור און אַ סיליציום פילם וועט זיין דאַפּאַזיטיד אויף די ייבערפלאַך. די טערמאַל יקספּאַנשאַן קאָואַפישאַנט פון קוואַרץ איז גאַנץ אַנדערש פון אַז פון סיליציום. ווען געוויינט אין די אויבן פּראָצעס, עס איז נייטיק צו קעסיידער זויערע וגערקע צו באַזייַטיקן די סיליציום דאַפּאַזיטיד אויף די ייבערפלאַך צו פאַרמייַדן די קוואַרץ שיפל שטיצן פון ברייקינג רעכט צו טערמאַל יקספּאַנשאַן און צונויפצי רעכט צו די פאַרשידענע טערמאַל יקספּאַנשאַן קאָואַפישאַנט פון סיליציום. רעכט צו אָפט פּיקלינג און נידעריק הויך-טעמפּעראַטור שטאַרקייט, די קוואַרץ שיפל האָלדער האט אַ קורץ לעבן און איז אָפט ריפּלייסט אין די טונעל אַקסאַדיישאַן און דאָפּט פּאָליסיליקאָן שיכטע צוגרייטונג פּראָצעס, וואָס באטייטיק ינקריסיז די פּראָדוקציע קאָס פון די באַטאַרייע צעל. די יקספּאַנשאַן קאָואַפישאַנט פון סיליציום קאַרבידע איז נאָענט צו די פון סיליציום. אין די טונעל אַקסאַדיישאַן און דאָפּט פּאָליסיליקאָן שיכטע צוגרייטונג פּראָצעס, די ינאַגרייטיד סיליציום קאַרבידע שיפל האָלדער טוט נישט דאַרפֿן פּיקלינג, האט הויך הויך-טעמפּעראַטור שטאַרקייַט און לאַנג דינסט לעבן, און איז אַ גוט אָלטערנאַטיוו צו די קוואַרץ שיפל האָלדער.

באָראָן יקספּאַנשאַן עקוויפּמענט איז דער הויפּט געניצט פֿאַר דעם פּראָצעס פון דאָפּינג באָראָן עלעמענטן אויף די N-טיפּ סיליציום ווייפער סאַבסטרייט פון די באַטאַרייע צעל צו צוגרייטן די פּ-טיפּ ימיטער צו פאָרעם אַ פּן קנופּ. דער אַרבעט פּרינציפּ איז צו פאַרשטיין כעמיש אָפּרוף און מאָלעקולאַר דעפּאַזישאַן פילם פאָרמירונג אין אַ הויך-טעמפּעראַטור אַטמאָספער. נאָך די פילם איז געשאפן, עס קענען זיין דיפיוזד דורך הויך-טעמפּעראַטור באַהיצונג צו פאַרשטיין די דאָפּינג פונקציע פון ​​​​די סיליציום ווייפער ייבערפלאַך. רעכט צו דער הויך ארבעטן טעמפּעראַטור פון די באָראַן יקספּאַנשאַן ויסריכט, די קוואַרץ שיפל האָלדער האט נידעריק הויך-טעמפּעראַטור שטאַרקייַט און אַ קורץ דינסט לעבן אין די באָראָן יקספּאַנשאַן ויסריכט. די ינאַגרייטיד סיליציום קאַרבידע שיפל האָלדער האט הויך הויך-טעמפּעראַטור שטאַרקייַט און איז אַ גוט אָלטערנאַטיוו צו די קוואַרץ שיפל האָלדער אין די באָראָן יקספּאַנשאַן פּראָצעס.

② סאַבסטיטושאַן שייכות אין אנדערע פּראָצעס ויסריכט
SiC שיפל שטיצט האָבן אַ ענג פּראָדוקציע קאַפּאַציטעט און ויסגעצייכנט פאָרשטעלונג. זייער פּרייסינג איז בכלל העכער ווי אַז פון קוואַרץ שיפל שטיצט. אין אַלגעמיין ארבעטן באדינגונגען פון צעל פּראַסעסינג ויסריכט, די חילוק אין דינסט לעבן צווישן SiC שיפל שטיצט און קוואַרץ שיפל שטיצט איז קליין. דאַונסטרים קאַסטאַמערז דער הויפּט פאַרגלייַכן און קלייַבן צווישן פּרייַז און פאָרשטעלונג באזירט אויף זייער אייגענע פּראַסעסאַז און באדערפענישן. SiC שיפל סופּפּאָרץ און קוואַרץ שיפל שטיצט האָבן ווערן קאָויגזיסטאַנט און קאַמפּעטיטיוו. אָבער, די גראָב נוץ גרענעץ פון SiC שיפל שטיצט איז לעפיערעך הויך דערווייַל. מיט די אַראָפּגיין אין די פּראָדוקציע קאָס פון SiC שיפל שטיצט, אויב די סעלינג פּרייַז פון SiC שיפל שטיצט אַקטיוולי דיקליינז, עס וועט אויך מאַכן אַ גרעסערע קאַמפּעטיטיווניס צו קוואַרץ שיפל שטיצט.

(2) באַניץ פאַרהעלטעניש
דער צעל טעכנאָלאָגיע מאַרשרוט איז דער הויפּט PERC טעכנאָלאָגיע און TOPCon טעכנאָלאָגיע. די מאַרק טיילן פון PERC טעכנאָלאָגיע איז 88%, און די מאַרק טיילן פון TOPCon טעכנאָלאָגיע איז 8.3%. די קאַמביינד מאַרק טיילן פון די צוויי איז 96.30%.

ווי געוויזן אין די פיגור אונטן:
אין PERC טעכנאָלאָגיע, שיפל סופּפּאָרץ זענען פארלאנגט פֿאַר די פראָנט פאַספעראַס דיפיוזשאַן און אַנילינג פּראַסעסאַז. אין TOPCon טעכנאָלאָגיע, שיפל סופּפּאָרץ זענען פארלאנגט פֿאַר די פראָנט באָראָן דיפיוזשאַן, LPCVD, צוריק פאַספעראַס דיפיוזשאַן און אַנילינג פּראַסעסאַז. דערווייַל, סיליציום קאַרבידע שיפל סופּפּאָרץ זענען דער הויפּט געניצט אין די LPCVD פּראָצעס פון TOPCon טעכנאָלאָגיע, און זייער אַפּלאַקיישאַן אין די באָראָן דיפיוזשאַן פּראָצעס איז דער הויפּט וועראַפייד.

פיגורע אַפּלאַקיישאַן פון שיפל שטיצט אין די צעל פּראַסעסינג פּראָצעס:

באַמערקונג: נאָך די פראָנט און צוריק קאָוטינג פון PERC און TOPCon טעקנאַלאַדזשיז, עס זענען נאָך סטעפּס אַזאַ ווי פאַרשטעלן דרוקן, סינטערינג און טעסטינג און סאָרטינג, וואָס טאָן ניט אַרייַנציען די נוצן פון שיפל שטיצט און זענען נישט ליסטעד אין די אויבן פיגור.

(3) צוקונפֿט אַנטוויקלונג גאַנג
אין דער צוקונפֿט, אונטער דער השפּעה פון די פולשטענדיק פאָרשטעלונג אַדוואַנטידזשיז פון סיליציום קאַרבידע שיפל סופּפּאָרץ, די קעסיידערדיק יקספּאַנשאַן פון קאַסטאַמערז און די פּרייַז רעדוקציע און עפעקטיווקייַט פֿאַרבעסערונג פון די פאָטאָוואָלטאַיק אינדוסטריע, די מאַרק טיילן פון סיליציום קאַרבידע שיפל סופּפּאָרץ איז געריכט צו פאַרגרעסערן ווייַטער.

① אין די אַרבעט סוויווע פון ​​LPCVD און באָראָן דיפיוזשאַן ויסריכט, די פולשטענדיק פאָרשטעלונג פון סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצט איז בעסער ווי די פון קוואַרץ און האט אַ לאַנג דינסט לעבן.
② דער קונה יקספּאַנשאַן פון סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצן מאַניאַפאַקטשערערז רעפּריזענטיד דורך די פירמע איז גלאַט. פילע קאַסטאַמערז אין די אינדוסטריע אַזאַ ווי צפון הואַטשואַנג, סאָנגיו טעכנאָלאָגיע און קיהאַאָ ניו ענערגיע האָבן אנגעהויבן צו נוצן סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצט.
③ קאָס רעדוקציע און עפעקטיווקייַט פֿאַרבעסערונג האָבן שטענדיק געווען די יאָג פון די פאָטאָוואָלטאַיק אינדוסטריע. שפּאָרן קאָס דורך גרויס-וואָג באַטאַרייע סעלז איז איינער פון די מאַנאַפעסטיישאַנז פון פּרייַז רעדוקציע און עפעקטיווקייַט פֿאַרבעסערונג אין די פאָטאָוואָלטאַיק אינדוסטריע. מיט דעם גאַנג פון גרעסערע באַטאַרייע סעלז, די אַדוואַנטידזשיז פון סיליציום קאַרבידע שיפל שטיצט רעכט צו זייער גוט פולשטענדיק פאָרשטעלונג וועט ווערן מער קלאָר ווי דער טאָג.