הקדמה צו CVD TaC קאָוטינג:
CVD TaC קאָוטינג איז אַ טעכנאָלאָגיע וואָס ניצט כעמישע פארע דעפּאַזישאַן צו דעפּאַזירן טאַנטאַלום קאַרבייד (TaC) קאָוטינג אויף דער ייבערפלאַך פון אַ סאַבסטראַט. טאַנטאַלום קאַרבייד איז אַ הויך-פאָרשטעלונג קעראַמיש מאַטעריאַל מיט ויסגעצייכנטע מעכאַנישע און כעמישע אייגנשאַפטן. דער CVD פּראָצעס דזשענערירט אַ מונדיר TaC פילם אויף דער ייבערפלאַך פון דעם סאַבסטראַט דורך גאַז רעאַקציע.
הויפּט פֿעיִקייטן:
אויסגעצייכנטע כאַרדנאַס און טראָגן קעגנשטעלטאַנטאַלום קאַרבייד האט גאָר הויכע כאַרטקייט, און CVD TaC קאָוטינג קען באַדייטנד פֿאַרבעסערן די טראָגן קעגנשטעל פון די סאַבסטראַט. דאָס מאַכט די קאָוטינג ידעאַל פֿאַר אַפּלאַקיישאַנז אין הויך-טראָגן ינווייראַנמאַנץ, אַזאַ ווי קאַטינג מכשירים און פורעם.
הויך טעמפּעראַטור סטאַביליטעטTaC קאָוטינגז באַשיצן קריטישע אויוון און רעאַקטאָר קאָמפּאָנענטן ביי טעמפּעראַטורן ביז 2200°C, דעמאָנסטרירנדיק גוטע פעסטקייט. עס האַלט כעמישע און מעכאַנישע פעסטקייט אונטער עקסטרעמע טעמפּעראַטור באדינגונגען, מאַכנדיג עס פּאַסיק פֿאַר הויך-טעמפּעראַטור פּראַסעסינג און אַפּלאַקיישאַנז אין הויך-טעמפּעראַטור ינווייראַנמאַנץ.
אויסגעצייכנטע כעמישע פעסטקייטטאַנטאַלום קאַרבייד האט שטאַרקע קעראָוזשאַן קעגנשטעל צו רובֿ זויערן און אַלקאַליס, און CVD TaC קאָוטינג קען יפעקטיוולי פאַרמייַדן שעדיקן צו די סאַבסטראַט אין קעראָוסיוו ינווייראַנמאַנץ.
הויכער שמעלץ-פונקטטאַנטאַלום קאַרבייד האט אַ הויכן שמעלץ-פּונקט (אומגעפער 3880°C), וואָס ערלויבט CVD TaC קאָוטינג צו ווערן גענוצט אין עקסטרעם הויכע טעמפּעראַטור באדינגונגען אָן צעשמעלצן אָדער דעגראַדירן.
אויסגעצייכנטע טערמישע קאַנדאַקטיוויטיטאַק קאָוטינג האט הויך טערמישע קאַנדאַקטיוויטי, וואָס העלפֿט עפֿעקטיוו צעשפּרייטן היץ אין הויך-טעמפּעראַטור פּראָצעסן און פאַרמייַדן לאָקאַלע איבערהיצונג.
מעגלעכע אַפּליקאַציעס:
• גאליום ניטריד (GaN) און סיליקאן קאַרבייד עפּיטאַקסיאַל CVD רעאַקטאָר קאָמפּאָנענטן אַרייַנגערעכנט וועיפער טרעגערס, סאַטעליט שיסלען, שאַוער קעפּ, סילינגז און סאַסעפּטאָרס
• סיליקאָן קאַרבייד, גאַליום ניטריד און אַלומינום ניטריד (AlN) קריסטאַל וווּקס קאָמפּאָנענטן אַרייַנגערעכנט קרוסיבלז, זוימען האָלדערס, פירער רינגען און פילטערס
• אינדוסטריעלע קאָמפּאָנענטן אַרייַנגערעכנט קעגנשטעל הייצונג עלעמענטן, ינדזשעקשאַן נאַזאַלז, מאַסקינג רינגען און ברייזינג דזשיגס
אַפּליקאַציע פֿעיִקייטן:
• טעמפּעראַטור סטאַביל העכער 2000°C, אַלאַוינג אָפּעראַציע ביי עקסטרעם טעמפּעראַטורן
• קעגנשטעליק צו וואַסערשטאָף (Hz), אַמאָניאַק (NH3), מאָנאָסילאַן (SiH4) און סיליקאָן (Si), וואָס גיט שוץ אין שווערע כעמישע סביבות
• איר טערמישע שאָק קעגנשטעל ערמעגליכט שנעלערע אַפּערייטינג ציקלען
• גראַפיט האט שטאַרקע אַדכיזשאַן, וואָס גאַראַנטירט אַ לאַנגע לעבן און קיין דעלאַמינאַציע פון קאָוטינג.
• אולטרא-הויכע ריינקייט צו עלימינירן אומנייטיקע אומריינקייטן אדער קאנטאמינאנטן
• קאָנפאָרמאַל קאָוטינג קאַווערידזש צו ענגע דימענסיאָנעלע טאָלעראַנסעס
טעכנישע ספּעציפֿיקאַציעס:
צוגרייטונג פון געדיכטע טאַנטאַלום קאַרבייד קאָוטינגז דורך CVD:
טאַק קאָוטינג מיט הויך קריסטאַליניטי און ויסגעצייכנט יונאַפאָרמאַטי:
CVD TAC קאָוטינג טעכנישע פּאַראַמעטערס_סעמיסעראַ:
| פיזישע אייגנשאפטן פון TaC קאָוטינג | |
| געדיכטקייט | 14.3 (ג/קמ³) |
| גרויסע קאָנצענטראַציע | 8 x 1015/ס״מ |
| ספּעציפֿישע עמיסיוויטי | 0.3 |
| טערמישע אויסברייטונג קאעפיציענט | 6.3 10-6/K |
| כאַרדנאַס (HK) | 2000 האָנג קאָנג |
| באַלק קעגנשטעל | 4.5 אָום-ס״מ |
| קעגנשטעל | 1x10-5אָום*ס״מ |
| טערמישע פעסטקייט | <2500℃ |
| מאָביליטעט | 237 ס״מ2/ קעגן |
| גראַפיט גרייס ענדערונגען | -10~-20ום |
| קאָוטינג גרעב | טיפּישער ווערט ≥20ום (35ום+10ום) |
די אויבנדערמאנטע זענען טיפּישע ווערטן.













