Semicera פּראָווידעס ספּעשאַלייזד טאַנטאַלום קאַרבידע (טאַק) קאָאַטינגס פֿאַר פאַרשידן קאַמפּאָונאַנץ און קאַריערז.סעמיסעראַ לידינג קאָוטינג פּראָצעס ינייבאַלז טאַנטאַלום קאַרבידע (טאַק) קאָוטינגז צו דערגרייכן הויך ריינקייַט, הויך טעמפּעראַטור פעסטקייַט און הויך כעמיש טאָלעראַנץ, ימפּרוווינג פּראָדוקט קוואַליטעט פון SIC / GAN קריסטאַלז און EPI לייַערס (גראַפיטע קאָוטאַד טאַק סאַסעפּטאָר), און יקסטענדינג די לעבן פון שליסל רעאַקטאָר קאַמפּאָונאַנץ. די נוצן פון טאַנטאַלום קאַרבידע טאַק קאָוטינג איז צו סאָלווע די ברעג פּראָבלעם און פֿאַרבעסערן די קוואַליטעט פון קריסטאַל גראָוט, און סעמיסעראַ האט ברייקטרו סאַלווד די טאַנטאַלום קאַרבידע קאָוטינג טעכנאָלאָגיע (CVD), ריטשינג די אינטערנאַציאָנאַלע אַוואַנסירטע מדרגה.
גראַפיטע איז אַ ויסגעצייכנט הויך-טעמפּעראַטור מאַטעריאַל, אָבער עס אַקסאַדייזיז לייכט ביי הויך טעמפּעראַטורעס. אפילו אין וואַקוום אויוון מיט ינערט גאַז, עס קען נאָך דורכגיין פּאַמעלעך אַקסאַדיישאַן. ניצן אַ קווד טאַנטאַלום קאַרבידע (טאַק) קאָוטינג קענען יפעקטיוולי באַשיצן די גראַפייט סאַבסטרייט, פּראַוויידינג דער זעלביקער הויך-טעמפּעראַטור קעגנשטעל ווי גראַפייט. טאַק איז אויך אַ ינערט מאַטעריאַל, טייַטש עס וועט נישט רעאַגירן מיט גאַסאַז אַזאַ ווי אַרגאָן אָדער הידראָגען ביי הויך טעמפּעראַטורעס.אָנפרעגמנהג CVD TaC קאָוטינג פּאַרץ איצט!
נאָך יאָרן פון אַנטוויקלונג, Semicera האט קאַנגקערד די טעכנאָלאָגיע פוןCVD TaCמיט די שלאָס השתדלות פון די ר & די אָפּטיילונג. חסרונות זענען גרינג צו פאַלן אין דעם וווּקס פּראָצעס פון סיק ווייפערז, אָבער נאָך ניצןטאַק, דער חילוק איז באַטייטיק. ונטער איז אַ פאַרגלייַך פון ווייפערז מיט און אָן טאַק, ווי געזונט ווי Simicera' פּאַרץ פֿאַר איין קריסטאַל גראָוט.
מיט און אָן טאַק
נאָך ניצן טאַק (רעכט)
דערצו, סעמיסעראַ סטאַק-קאָוטאַד פּראָדוקטןויסשטעלונג אַ מער דינסט לעבן און גרעסער הויך-טעמפּעראַטור קעגנשטעל קאַמפּערד צוSiC קאָאַטינגס.לאַבאָראַטאָריע מעזשערמאַנץ האָבן דעמאַנסטרייטיד אַז אונדזערטאַק קאָוטינגזקענען קאַנסיסטאַנטלי דורכפירן אין טעמפּעראַטורעס אַרויף צו 2300 דיגריז סעלסיוס פֿאַר עקסטענדעד פּיריאַדז. ונטער זענען עטלעכע ביישפילן פון אונדזער סאַמפּאַלז:
