אונדזער LPCVD(נידעריק דרוק כעמישער פארע דעפּאַזישאַן)סיליציום קאַרבידע שיפלאיז ענדזשאַנירד מיט קאַטינג-ברעג טעכנאָלאָגיע, דיזיינד פֿאַר די הויך-טעמפּעראַטור סעמיקאַנדאַקטער מאַנופאַקטורינג פּראָצעס.דעם הויך-קוואַליטעטסיליציום קאַרבידע שיפלדיליווערז יקסעפּשאַנאַל פאָרשטעלונג און רילייאַבילאַטי אונטער עקסטרעם טנאָים, מאכן עס אַן אידעאל ברירה פֿאַר סעמיקאַנדאַקטער פאַבריקיישאַן און אנדערע הויך-טעמפּעראַטור פּראַסעסאַז.
הויך-טעמפּעראַטור פעסטקייַט:אונדזערסיליציום קאַרבידע שיפלוויטסטאַנד טעמפּעראַטורעס אַרויף צו1700°C, ינשורינג פעסטקייַט און פאָרשטעלונג אין קעסיידערדיק הויך-טעמפּעראַטור אַפּעריישאַנז.
כעמישער ינערטנאַס:מיט בוילעט כעמישער פעסטקייַט, עס אַנטקעגנשטעלנ קעראָוזשאַן פון אַסאַדז, באַסעס און אנדערע קעראָוסיוו קעמיקאַלז, ינשורינג געווער איבער לאַנג-טערמין נוצן.
העכער טערמאַל קאַנדאַקטיוואַטי:הויך טערמאַל קאַנדאַקטיוואַטי ינשורז מונדיר טעמפּעראַטור פאַרשפּרייטונג איבער די שיפל, קאַנטריביוטינג צו ימפּרוווד פּראָדוקט קוואַליטעט און קאָנסיסטענסי.
שטאַרקייט און טראָגן קעגנשטעל:ויסערגעוויינלעך מעטשאַניקאַל שטאַרקייט און טראָגן קעגנשטעל לאָזן קעסיידערדיק נוצן אָן שעדיקן, רידוסינג פאַרבייַט אָפטקייַט און פּרייַז.
אַפּפּליקאַטיאָנס:
פּאַסיק פֿאַר פאַרשידן הויך-טעמפּעראַטור פּראַסעסאַז, אַרייַנגערעכנט אָבער ניט לימיטעד צו סעמיקאַנדאַקטער מאַנופאַקטורינג, זונ - צעל פּראָדוקציע און הויך-טעמפּעראַטור אויוון אַפּעריישאַנז.זייַן הויך פאָרשטעלונג און רילייאַבילאַטי מאַכן עס די ידעאַל ברירה פֿאַר די פאדערן אַפּלאַקיישאַנז.
פארוואס קלייַבןאונדזער LPCVDסיליציום קאַרבידע שיפל?
מיר זענען קאַמיטאַד צו צושטעלן די העכסטן סטאַנדאַרדס פון פּראָדוקטן און באַדינונגס.אונדזער LPCVDסיליציום קאַרבידע שיפלניט בלויז גיט בוילעט פאָרשטעלונג און געווער, אָבער אויך העלפּס אַפּטאַמייז פּראָדוקציע עפעקטיווקייַט און קוואַליטעט, רידוסינג אַפּעריישאַנאַל קאָס.טשאָאָסינג אונדז מיטל סאַלעקטינג אַ טראַסטיד שוטעף צו פאָרן דיין געשעפט פאָרויס.
אַרבעט אָרט
וואַרעהאָוסע
אונדזער וואַרשטאַט
